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El nodo ModelSamplingFlux aplica el muestreo del modelo Flux a un modelo dado calculando un parámetro de desplazamiento basado en las dimensiones de la imagen. Crea una configuración de muestreo especializada que ajusta el comportamiento del modelo según el ancho, la altura y los parámetros de desplazamiento especificados, y luego devuelve el modelo modificado con la nueva configuración de muestreo aplicada.

Entradas

max_shift y base_shift son parámetros avanzados. El desplazamiento aplicado a la configuración de muestreo se calcula a partir de las dimensiones de la imagen: la resolución latente se calcula como width × height / 256, y el valor de desplazamiento se interpola entre base_shift en una resolución latente de 256 y max_shift en una resolución latente de 4096.

Salidas

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Source fingerprint (SHA-256): 04065b54ace30a2b20476ed085df871ea89794650e98ae30c40f750357663834