メインコンテンツへスキップ
LatentCompositeMasked ノードは、指定された座標で 2 つの潜在表現（latent representation）を合成するためのノードであり、必要に応じてマスクを用いてより精密な合成制御が可能です。このノードにより、ある画像の一部を別の画像上にオーバーレイすることで複雑な潜在画像を作成でき、またソース画像をリサイズして目的のサイズに正確に合わせることもできます。

​
入力

パラメーターデータ型説明
destinationLATENT他の潜在表現を合成する対象となる潜在表現です。合成操作におけるベースレイヤーとして機能します。
sourceLATENTdestination 上に合成される潜在表現です。このソースレイヤーは、指定されたパラメーターに従ってサイズ変更および位置調整が可能です。
xINTソースを配置する際の、destination 潜在表現における X 座標です。ソースレイヤーの位置を高精度で指定できます。
yINTソースを配置する際の、destination 潜在表現における Y 座標です。オーバーレイの位置を正確に制御できます。
resize_sourceBOOLEANソースの潜在表現を、合成前に destination の寸法に合わせてリサイズするかどうかを示すブール値フラグです。
maskMASKソースと destination のブレンドを制御するために使用可能なオプションのマスクです。このマスクによって、最終的な合成結果においてソースのどの部分が可視となるかが定義されます。

​
出力

パラメーターデータ型説明
latentLATENTソースを destination 上に合成した結果得られる潜在表現です。必要に応じてマスクを用いた選択的ブレンドが行われます。