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このノードは、512 解像度の形状潜在変数を高解像度スパース座標へアップスケールし、ターゲット解像度で第2形状ステージサンプリングパスを準備します。
| パラメータ | 説明 | データ型 | 必須 | 範囲 |
|---|---|---|---|---|
positive | アップサンプリング段階の形状メタデータが付加されるポジティブコンディショニング。 | CONDITIONING | はい | |
negative | アップサンプリング段階の形状メタデータが付加されるネガティブコンディショニング。 | CONDITIONING | はい | |
shape_latent | 最初の形状ステージ KSampler から出力される 512 解像度の形状潜在変数。 | LATENT | はい | |
vae | 形状潜在変数を高解像度スパース座標へデコードするために使用される Trellis2 VAE。 | VAE | はい | |
target_resolution | アップサンプリング後の形状のボクセル解像度。高いほど詳細が増えますが、VRAM 消費も増えます。デフォルト: 1024。 | INT | はい | 1024 - 2048 (ステップ 128) |
| 出力名 | 説明 | データ型 |
|---|---|---|
positive | アップサンプリング段階の形状メタデータが付加されたポジティブコンディショニング。 | CONDITIONING |
negative | アップサンプリング段階の形状メタデータが付加されたネガティブコンディショニング。 | CONDITIONING |
latent | ターゲット解像度での第2形状ステージサンプリングパス用に準備されたゼロ埋め潜在変数。アップサンプリングされた座標、サンプルごとの座標数、および座標解像度メタデータを保持します。 | LATENT |
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