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Genera mediante bake un mapa de oclusión ambiental desde una malla high-poly hacia la disposición UV de una malla low-poly. La salida es una imagen en escala de grises en la que los texeles blancos están expuestos y los texeles oscuros están en hendiduras; está pensada para la entrada de oclusión del nodo Apply Texture To Mesh. Conecta la malla low-poly con UV desplegadas y la malla high-poly de la que se decimó.

Entradas

Nota: low_poly debe tener coordenadas UV; este nodo nunca hace unwrap de la malla. Si high_poly contiene solo un elemento de lote, se reutiliza para cada elemento de lote de low_poly; los elementos de lote de low_poly sin caras se omiten y se reemplazan por una imagen completamente blanca, y se registra una advertencia. Si las UV de low_poly se salen del rango 0-1, se reajustan uniformemente para que entren en él, y se registra una advertencia cuando se detecta una disposición de tipo tiled/UDIM.

Salidas

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Source fingerprint (SHA-256): 63ea6ce5289728d351fdd7d722e9a299ebb1283e1128262a817466ec6d23786a